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逢甲大學 機械與電腦輔助工程學系&品膉電子材料科技有限公司 合作研討文
2026-02-26
一、研究背景與研究目標
本研究由逢甲大學機械與電腦輔助工程學系精密製造實驗室進行,並與品膉電子材料科技有限公司進行材料技術交流與製程討論,針對氟化鈣晶圓之精密拋光製程進行研究,並探討拋光液配方設計與製程參數對表面品質之影響,期望改善高階光學元件拋光製程之穩定性與加工品質。
二、三元複合拋光液之開發
本研究開發一種三元複合拋光液,並應用於氟化鈣晶圓之化學機械拋光製程。拋光液之組成包含自製氧化石墨烯與二氧化鈰磨料,並加入兩種穩定劑,分別為醋酸鈣與碳酸鈣,以提升漿料中顆粒之分散穩定性;拋光液之鹼性環境則以氫氧化鉀進行調配與控制。
透過上述配方設計,使拋光液在加工過程中能維持良好之分散性與製程穩定性。同時,藉由拋光液與氟化鈣表面之摩擦化學作用,可於拋光界面形成極薄之反應層,有助於促進材料移除,並降低表面與次表面損傷之產生。
三、實驗結果與應用潛力
本研究以氟化鈣晶圓為加工對象,進行拋光製程測試與參數驗證。結果顯示,在適當之製程條件與漿料 pH 值範圍下,所開發之三元複合拋光液可有效降低傳統拋光製程中常見之表面刮痕與局部缺陷,並可獲得亞奈米等級之表面粗糙度。
整體而言,本研究所提出之三元複合拋光液於氟化鈣晶圓拋光製程中展現良好之製程穩定性與表面品質改善效果,對於低硬度且易受加工損傷之光學晶圓材料具有實際應用潛力,未來亦可進一步評估其於其他脆性材料精密拋光製程之可行性。
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